Машина печатающая микрочипы, система фотолитографии в глубоком ультрафиолете

Такие устройства работают в полном вакууме, используют сложные многослойные зеркала вместо линз и позволяют создавать мельчайшие элементы транзисторов. Принцип работы: в машину помещается фотомаска — трафарет транзисторного слоя будущего чипа. Затем в машину загружается предварительно обработанная круглая пластина из кремния. С помощью источника ультрафиолетового света и системы зеркал шаблон с маски переносится на небольшой кусочек пластины. После этого пластина сдвигается, и процесс повторяется снова и снова — до тех пор, пока она полностью не заполнится «рисунками» транзисторного слоя будущих микрочипов. По состоянию на октябрь 2025 года единственная в мире компания, производящая EUV-машины, — ASML из Нидерландов. В начале 2025 года сообщалось, что Китай разработал прототип EUV-станка для фотолитографии и планирует начать производство работающих микросхем с его помощью к 2028 году, но более вероятным сроком называют 2030-й